国家知识产权局信息显示，艾利克斯实验室公司申请一项名为“硅纳米结构的循环加工”的专利，公开号CN122228752A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，提供了用于加工从支承结构竖立的硅纳米结构的方法。该硅纳米结构具有主表面，该主表面由相对于主表面的倾斜表面界定。该方法包括使硅纳米结构经受第一循环过程。第一循环过程的每个循环包括：氧化主表面和倾斜表面，从而在主表面和倾斜表面上形成氧化硅层；应用第一蚀刻工艺，该第一蚀刻工艺被配置成在保留倾斜表面上的氧化硅层的同时，从主表面各向异性蚀刻氧化硅层，从而暴露硅纳米结构的硅；以及应用第二蚀刻工艺，该第二蚀刻工艺被配置成使用倾斜表面的氧化硅层作为掩模层来选择性地蚀刻硅纳米结构的暴露的硅。由此实现相对于倾斜表面的主表面的选择性蚀刻，使得在硅纳米结构中形成凹部，该凹部在硅纳米结构的主表面处具有其开口。

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